Hochimpulsive magnetische Kathodenzerstäubung

HIPIMS- High Power Impuls Magnetron Sputtern: Kurzes aber starkes Sputtern bis zu 8 MW. Dabei wird das gesputterte Metall ionisiert und die Ionenimplantation in Gang gesetzt. So entsteht zwischen Schicht und Substrat eine sehr starke, diffusionsähnliche Verbindung mit sehr großer Adhäsion. Vor allem die starke Adhäsion ist eine große technische Errungenschaft, da hochleistungsstarke DLC Schichten eine sehr starke Verbindung mit dem Substrat erfordern.