Beim Sputtern wird das Beschichtungsmaterial durch Beschuss einer Targetoberfläche (Kathode) mit energiereichen Argon-Ionen im Plasma zerstäubt. Die so aus dem Beschichtungsmaterial ausgeschlagenen Metallteilchen kondensieren beim Auftreffen auf der Substratoberfläche. Als Targetmaterial stehen z.B. Kupfer und diverse Edelstahllegierungen zur Verfügung.
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Unlegierte oder niedriglegierte Stähle können mit Induktionserwärmung partiell ausgeglüht werden, um
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