Hochtechnologische Oberflächenveredelung

3D-Hybride Au– Quadroimpuls-CVD-Verfahren (80ºC – 1200ºC) 3D-AUDIP-CVD- Verfahren (80ºC – 1200ºC) Mittels diesem Verfahren werden folgende Hartstoffe hergestellt: Impuls-Plasma-Nitrieren (420ºC – 700ºC) Plasma-Nitrieren (480ºC – 700ºC) PVD-Verfahren (100ºC – 700ºC) Reaktives Magnetronsputtern Reaktives Multi-ARC 3A-7 Reaktives Bedampfen mittels Elektronen-Strahlkanonn Hochtemperatur– CVD– Verfahren (850ºC bis 1240ºC) Mittels diesem Verfahren werden folgende Hartstoffe hergestellt: Me-Karbide : CrxCy, NbC, TaC, TiC, VC, WC , TiVC Me-Nitride : TiN, NbN, TaN, VN und WN Me-Karbonitride : TiCN, NbCN, TaCN, TiCN, VCN, WCN Andere : Al u. a..